剥离光刻胶配方分析-禾川化学-光刻胶

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    2020-11-17

禾川化学
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配方还原

配方还原是指通过多种分离和分析方法的联合运用,对样品中的各组分进行定性和定量分析,通过各类分析谱图(光谱、色谱、质谱、能谱、热谱)的---数据比对与分析,从而获得其---原始配方的过程,是产品开发的反过程。也称之为逆向工程。

配方还原可以帮您解决:

1、用于产品开发,可以缩短研发周期,降低风险。

2、分析业内gao端产品配方,指导配方改进,光刻胶,工艺优化,负性光刻胶配方分析,加快自身摸索进度。

3、获得基本配方,微调后,实现模仿生产的目的。

4、工业问题诊断,早时间内找出根源。




成分分析

       成分分析是指通过微观谱图、化学分析等手段对样品中的组成成分进行定性定量分析的一种技术手段。

       成分分析手段多种多样。成分分析可以通过观测分子、原子、电子、原子核、---团的振动、能级跃迁等确定待测分析组分的分子结构,可以根据不同组分吸附性质不同,使用色谱柱对其进行分离,以确定各个组成成分,剥离光刻胶配方分析,可以根据组分的特征反应方程式,通过化学滴定的方法确定该组分,还可以根据不同组分的分解温度不同,通过燃烧的方式确定其组成成分。


工业诊断异物分析:

企业在生产或研发中常遇到的一些自身难以解决的问题,如异物、杂质、斑点的成分、异物、表面出油、开裂、断裂、吐白、吐霜等。工业诊断异物分析从问题的源头—产品的配方及成分上去寻找原因,先对异物分离提纯再利用相应的大型分析仪器检测,湿法光刻胶配方分析,---将仪器检测数据与相关文献及行业经验相结合,提出从源头上解决工业问题的方案。

常见工业诊断异物分析项目:

? pcb电路板失效

pcb腐蚀、pcb气泡、表面斑点、开裂、氧化。

? 电子元器件失效

斑点、集成电路、微波器件、继电器和连接器。

? 机械零部件

金属/非金属断口形貌分析;机械零部件断裂根因分析;变se/se差根因分析;表面处理异常分析、变形/配合---根因分析、污染物/夹杂物等异物分析、龟裂/老化/脆化根因分析、各类腐蚀---分析、焊接---失效分析。

? 电子零组件

阻容感失效分析、半导体分立器件在板故障分析、 ic封装级分析、电源模块/锂离子电池失效分析pcb/pcba/连接器/线缆失效分析、各类手机零部件失效分析。

? 未知化工原料/中间体/产物

烃类;醇、酚、醚类,羧酸、酯类;醛、酮、醌类;卤代物;杂环化合物;芳香族类;---酸、蛋白质、---类。无机物:无机盐;无机酸;氧化物;无机碱;单质元素。

? 未知异物杂质

电子产品的嵌入异物或异样斑点;表面污染物、析出物、油状物、雾状物;橡胶喷霜;工业产品黄变、发黑;化工产品的杂质、副产物。

工业诊断异物分析意义:

? 降低产品缺陷率

? 减少返修率

? 提高产品---性

? 降低产品售后服务费用

? 增强产品品牌形象


剥离光刻胶配方分析-禾川化学(在线咨询)-光刻胶由苏州禾川化学技术服务有限公司提供。苏州禾川化学技术服务有限公司是从事“成分分析,配方还原,研发外包,工业诊断,仪器检测,技术咨询”的企业,公司秉承“诚信经营,用心服务”的理念,为您提供高的产品和服务。欢迎来电咨询!联系人:禾川化学。


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