光刻胶稀释剂配方分析-禾川化学-光刻胶

禾川化学通过采用光谱，色谱，质谱，能谱，热谱等图谱分析技术对产品或样品组成成分、元素或原料等成分进行分析，得到光刻胶稀释剂配方分析的配方。禾川化学通过针对几万种材料进行的配方还原，改进现有的分析手段，总结出针对相关材料的---的反推技术，获得了客户的一致---。

可以为您解决哪些问题

模仿生产：市场上有性能比较好的产品，想模仿光刻胶生产，光刻胶，需要配方；

降低成本：现有光刻胶的生产成本高于竞争---，想降低现有产品的生产成本；

提升性能：现有光刻胶稀释剂配方分析的性能没有竞争---好，想改进性能，提高产品的市场竞争力；

配套生产：自身的产品用量较大，想开发配方自己生产产品，来降低成本；

项目投资：---市场上某一款比较好的产品，光刻胶稀释剂配方分析，有销售渠道，想投资该项目进行产品生产销售。

以上问题可以通过大量实验来找出问题，这可能需要花费您大量时间以及人力物力成本，但是到禾川化学做光刻胶稀释剂配方分析配方分析，导电光刻胶配方分析，只需要10个工作日，禾川化学帮您提供解决方案。

配方还原是指通过多种分离和分析方法的联合运用，对样品中的各组分进行定性和定量分析，通过各类分析谱图（光谱、色谱、质谱、能谱、热谱）的---数据比对与分析，从而获得其---原始配方的过程，是产品开发的反过程。也称之为逆向工程。

配方还原可以帮您解决：

1、用于产品开发，可以缩短研发周期，降低风险。

2、分析业内gao端产品配方，指导配方改进，工艺优化，加快自身摸索进度。

3、获得基本配方，微调后，实现模仿生产的目的。

4、工业问题诊断，早时间内找出根源。